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EDI超純水設備采用反滲透技術+EDI+拋光混床系統制備超純水。...

采用萊特萊德超純水生產設備，可幾乎完全去除水中的導電介質，水中的非離析膠體物質、氣體和有機物被去除到很低的程度。超純水生產設備脫鹽的核心部件為反滲透膜組件、EDI系統和拋光混床等共同組成...

經過多年的實踐，萊特萊德結合膜分離技術，采用反滲透、EDI裝置結合混床的模塊化設計工藝制備超純水，其水電阻率高達18 MΩ*cm(25℃)，符合芯片制造用水要求，具有環保、經濟、發展潛力巨大等諸多優勢，為芯...

硼是半導體生產過程中的一種P型雜質，過量會使N型硅反轉，從而影響電子和空穴的濃度。因此，在超純水行業中應充分考慮去除硼。...

現在的超純水生產工藝大多采用反滲透設備+EDI+拋光混床，無需再生藥劑，有效降低了運行成本。汽車芯片用超純水設備生產的水質電阻率可以達到18MΩ·CM，滿足汽車芯片用水的需求。...

經過多年實踐，萊特萊德結合采用反滲透、EDI裝置結合拋光混床的模塊化設計工藝制備超純水，其水電阻率高達18MΩ*cm(25℃)，符合芯片制造用水要求，具有環保、經濟、發展潛力巨大等諸多優點...