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電子晶圓行業(yè)超純水設備現(xiàn)階段正從晶圓的基本水平起，執(zhí)行維護晶圓純凈度的崗位職責，不斷平穩(wěn)地制取達到晶圓生產(chǎn)制造需用的超純水系統(tǒng)，產(chǎn)水量電導率可達18MΩ·CM(25℃)。...

萊特萊德EDI超純水設備產(chǎn)出超純水電阻率可達到18 MΩ*cm(25℃)，可完全應用于芯片制造業(yè)。未來，不僅僅是科技時代，更是環(huán)保綠色的時代。...

萊特萊德超純水設備采用EDI技術，減少污染，滿足綠色環(huán)保工藝生產(chǎn)的特點，與其他同類產(chǎn)品相比，具有更高的性價比和設備可靠性，助力“點亮”中國“芯”。...

萊特萊德單晶硅超純水設備采用RO反滲透+EDI或混床拋光技術，可根據(jù)不同用戶的需要，為不同水質、不同水量、不同水質要求而定制設計的超純水設備，其水質穩(wěn)定、操作簡單、運行成本低、綠色環(huán)保、易維護...

萊特萊德公司結合膜分離技術，采用反滲透結合EDI裝置和精混床的工藝制備超純水，其出水電阻率可達18MΩ·cm(25℃)，有助于中國“芯”的發(fā)展。...

超純水設備采用反滲透工藝，或采用反滲透后離子交換混床、電去離子EDI工藝或拋光混床生產(chǎn)超純水，以確保出水水質符合行業(yè)標準，滿足芯片行業(yè)用水需求。...