在近幾年科技的不斷發(fā)展與進步中，我國國產(chǎn)芯片的成長速度也是有目共睹的，芯片制造業(yè)也成為了“爆款”產(chǎn)業(yè)。這樣一來芯片的生產(chǎn)量開始大幅度上漲，今天我們要了解的就是芯片生產(chǎn)中的超純水制造。

　　芯片生產(chǎn)離不開清洗用水——超純水的制造。

　　芯片生產(chǎn)所需的清洗用水為電阻率大于18MΩ*cm，接近于18.3MΩ*cm的超純水。這種超純水的制備過程比較復(fù)雜，為了達到芯片生產(chǎn)的用水要求，制備超純水的設(shè)備需要經(jīng)過嚴格的檢測。

　　據(jù)了解，傳統(tǒng)超純水制備過程中通常采用離子交換樹脂，此工藝需要進行樹脂再生，既耗費物力又耗費人工。目前，為了更好地節(jié)省人工和耗材，人們開始采用RO反滲透技術(shù)和EDI相結(jié)合的工藝，從而來制備超純水。

　　目前這種超純水設(shè)備與傳統(tǒng)工藝相比，不僅投入的運行成本低且人工成本也是很低的，并且設(shè)備的整體集成化程度高、自動化程度高，遇故障可以實現(xiàn)立即自停，具有自動保護功能。而且該設(shè)備應(yīng)用的膜技術(shù)，具有較高的溶質(zhì)分離率和透過率，可以高效產(chǎn)出高品質(zhì)超純水。

　　綜上，我們了解到，超純水設(shè)備出水電導(dǎo)率可達18.2mΩ，大大的滿足芯片行業(yè)用水需求，是該行業(yè)清洗用水的重要保障。