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在超純水領域，半導體工業對水質要求非常嚴格。當前，國內普遍采用的超純水標準(GB/T11446.1-2013)和國家標準“電子級水”。...
經過多年的實踐，萊特萊德結合膜分離技術，采用反滲透、EDI裝置結合混合床模塊化設計技術制備超純水，出水電阻率可達18MΩ.cm(25℃)，滿足芯片制造水平要求。...
萊特萊德超純水設備具有抗污染能力強、節能環保、產水水質穩定、脫鹽率高、系統內無死水等優勢，出水水質符合行業標準。...
萊特萊德超純水設備在設計上采用成熟、可靠、自動化程度高的兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝，確保處理后出水電阻率達到18MΩ.CM以上。...
萊特萊德采用反滲透工藝，或在反滲透后通過EDI和拋光混床工藝，以制得超純水，其出水電導率可達18.2MΩ，符合電鍍行業的用水需要。...
EDI超純水處理系統在各領域安裝應用已經達到數千套，特別是醫藥制品行業、電子半導體工業以及汽車等表面清洗領域中得到大力發展，同時在飲用水及微生物等領域也得到廣泛使用。...
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